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四氟化碳：蚀刻气体（电子半导体）
四氟化碳：又称为四氟甲烷，Carbon Tetrafluoride，化学式CF4，是微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体。
可广泛应用于薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池生产、激光技术、低温制冷、泄漏检验、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。
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